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光刻膠
主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛樹脂（CAS-NO.9016-83-5，濃度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氫 - 5 - 氧代 - 1 ...
型號： RZJ-304 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/12/9 17:34:59 對比

光刻膠正性光刻膠
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
型號： CPC15/35/... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/10 15:05:09 對比

生產(chǎn)型等離子清洗機等離子清洗機 CIF 等離子清洗機
原子層沉積研究設(shè)備
Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計，可最大限度地減少多用戶...
型號： TFS 200 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/10 14:46:09 對比

原子層沉積研究平臺
深硅刻蝕機
深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進...
型號： PSE V300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 21:53:24 對比

深硅刻蝕機 PSE V300
晶圓甩干機
1.是高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備。主要系應(yīng)用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設(shè)備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。2.產(chǎn)品類型：有立式單腔，雙腔...
型號： customize... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:13:48 對比

晶圓甩干機甩干機沖洗旋干設(shè)備干法清洗泉一
高真空等離子體增強化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空等離子體增強化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備...
型號：線列式PECVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:34:17 對比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
高真空等離子體增強化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由3個真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個進樣室、1個中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺、工作氣路、傳送機械手、抽...
型號： Cluster P... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:32:51 對比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部...
型號： EB700 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:25:25 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜
緊湊型刻蝕設(shè)備
RIE-1C是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設(shè)備?？梢愿咝А⒌蛽p傷地去除鈍化膜。它操作簡單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程?？梢苑旁谧烂嫔?，也可...
型號： RIE-1C 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:24:47 對比

緊湊型刻蝕機 RIE-1C SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
型號： RIE-300NR 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:19:00 對比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-300NR SAMCO
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝，兼容200mm以下所有尺寸的晶圓，快速更換到不同尺寸的晶圓工藝，電極的適用溫度范圍寬，-150°C至400...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:18:55 對比

離子刻蝕系統(tǒng)RIE 等離子刻蝕固體激光器 InP刻蝕石英刻蝕 OXFORD
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly...
型號： RIE-200C 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:14:14 對比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-200C SAMCO
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)配置與實際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以...
型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:12:25 對比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 刻蝕設(shè)備 OXFORD
深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH
提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的MEMS，封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用，從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實現(xiàn)。
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:05:06 對比

深硅刻蝕系統(tǒng)刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)OXFORD
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡介：1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內(nèi)部石英管的設(shè)計便于拆卸和清洗4. 基...
型號： customize... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:03:48 對比

化學(xué)氣相趁機系統(tǒng)薄膜生長設(shè)備
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號： RIE-800iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:03:35 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-800iP SAMCO
噴涂膠機
在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經(jīng)過優(yōu)化后的晶圓上方噴嘴移動路徑可以實現(xiàn)在襯底上均勻的涂層。噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細小的液滴
型號： AS8 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:03:11 對比

噴涂膠機涂膠顯影
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友...
型號： RIE-10NR 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:55:21 對比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-10NR SAMCO
納米壓印系統(tǒng)
納米壓印系統(tǒng) 簡介：1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平...
型號： GL6 R&... 所在地：青島市參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:51:14 對比

納米壓印系統(tǒng)納米壓印設(shè)備
電子束光刻系統(tǒng)
電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)：1.最小線寬≤8nm光柵周期≤40nm2.50KV加速電壓下，寫場可在0.5μm~500μm的范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)3.肖特基熱場發(fā)射電子束源...
型號： eLINE Plu... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:43:42 對比

電子束曝光光刻機無掩模光刻

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